近日，北京大学彭海琳教授团队，首次利用冷冻电子断层扫描技术，在原位解析了光刻胶分子，在液相中的微观三维结构和界面分布。这一研究：为开发减少光刻缺陷的产业化方案提供了指导，​光刻技术：是集成电路芯片微缩的关键。相关论文已在《自然·通讯》上发表。

京港高铁 八卦洲 型号合格证 马斯达尔 东澳岛 2025-10-26 08:58  2